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GMD2000系管線式電子廢液研磨分散機列的特點：具有非常高的剪切速度和剪切力，粒徑約為0.2-2微米可以確保高速分散乳化的穩(wěn)定性。

氧化鋯漿料高速剪切分散機的定轉(zhuǎn)子間隙一般為0.2-0.3mm，而普通乳化機一般為0.5-0.7mm，SGN定轉(zhuǎn)子更加精密，對于物料的細化效果更好。

納米氫氧化鎂分散機，SGN納米氫氧化鎂研磨式分散機，是由膠體磨+高剪切分散機組成，形成一體化的設(shè)備，先研磨后分散，避免物料團聚。

GRS2000磷酸鐵鋰電極材料分散機，采取直立式設(shè)計，使物料可以全部進入分散腔，符合工藝要求和流體力學(xué)要求，增加其工作效率

GMD2000酸樹脂壓敏膠高速研磨分散機為立式分體結(jié)構(gòu)，精密的零部件配合運轉(zhuǎn)平穩(wěn)，運行噪音在73DB以下。同時采用德國博格曼雙端面機械密封，并通冷媒對密封部分進行冷卻，把泄露概率降到低，保證機器連續(xù)24小時不停機運行。